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solidworks包覆后不能阵列，solidworks包覆和投影区别

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solidworks包覆后不能阵列

在SolidWorks中，创建包覆特征后仍然可以使用阵列特征对其进行复制和重复。如果您无法使用阵列特征对包覆特征进行复制，可能是由于以下原因：

  1. 阵列特征应用的对象不正确：请确保您选择了正确的对象进行阵列。例如，如果您要对一个零件进行阵列，则应选择该零件进行阵列，而不是包覆特征。
  2. 包覆特征与阵列特征的顺序不正确：如果您在创建阵列特征之前创建包覆特征，则可能会导致阵列特征无法正确应用。确保您在创建阵列特征之前创建包覆特征。
  3. 包覆特征创建后被删除或修改：如果您在创建包覆特征后删除或修改了该特征，则可能会导致阵列特征无法正确应用。请确保您不会在创建包覆特征后对其进行任何修改或删除。
  4. 包覆特征无法进行复制：在某些情况下，可能无法对包覆特征进行复制。例如，如果包覆特征的几何形状非常复杂，则可能无法正确地复制该特征。在这种情况下，可以尝试使用其他特征或方法来达到所需的结果。

如果您仍然无法使用阵列特征对包覆特征进行复制，请确保您的SolidWorks软件版本是最新的，并尝试使用其他方法或工具来达到所需的效果。

solidworks包覆和投影区别

SolidWorks中的包覆和投影都是特征工具，它们可以将几何形状添加到模型中。

包覆特征创建一个几何体，以包围或覆盖已经存在的几何体。该特征将在已有的几何体上创建一个新的体积，可以通过选择不同的操作（如切除、结合、交叉等）来控制新几何体与已有几何体的交互方式。包覆特征通常用于创建复杂的形状或填充空洞。

投影特征则是将几何体沿着给定的方向投影到一个平面上，创建一个新的二维几何图形。该特征通常用于在平面上创建特定的几何形状，例如在零件表面上添加标记或文本。投影特征可以使用不同的投影方向来控制二维几何图形的形状和位置。

因此，包覆特征和投影特征具有不同的用途和应用场景。包覆特征用于创建三维几何体，而投影特征则用于创建二维几何图形。根据您的具体设计需求和目标，可以选择使用其中的一种或两种特征来实现所需的效果。

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